140L中温气氛箱式炉，该设备为炉体呈箱型结构的热处理设备，通过内置加热元件提供可控的高温环境，主要用于对金属、陶瓷、粉体等物料进行批次式的加热、烧结、退火或淬火处理，广泛应用于材料科学与工程领域。

单温区PE-CVD系统采用高性能射频电源，等离子体更稳定；滑轨式结构能使整个反应腔室都处于辉光产生区；可实现快速升温和降温功能；与传统CVD相比较，生长温度更低。

1500单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件，额定温度1500℃，温度可达1450℃。采用宇电控温仪表和S型热电偶，可编程30段程序控温，控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰，双环密封技术，可应用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛下材料烧结、基片镀膜等实验环境。

实验室回转窑本装置由控制中心，加热炉主体，搅拌系统，平移装置及进气系统组成

实验级单温区立式管式炉 炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。

微型立式管式炉TFV-1200-30-220是一款小型开启式立式管式炉，其炉管直径为φ30/50mm可选，适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。如果选用不同的配件与装置搭配，其也可以当作一款流化床立式管式炉来使用，可专门针对粉末表面沉积的CVD实验。