单温区PE-CVD系统采用高性能射频电源，等离子体更稳定；滑轨式结构能使整个反应腔室都处于辉光产生区；可实现快速升温和降温功能；与传统CVD相比较，生长温度更低。

1500单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件，额定温度1500℃，温度可达1450℃。采用宇电控温仪表和S型热电偶，可编程30段程序控温，控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰，双环密封技术，可应用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛下材料烧结、基片镀膜等实验环境。

实验室回转窑本装置由控制中心，加热炉主体，搅拌系统，平移装置及进气系统组成

实验级单温区立式管式炉 炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。

微型立式管式炉TFV-1200-30-200是一款小型开启式立式管式炉，其炉管直径为φ30/50mm可选，适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。如果选用不同的配件与装置搭配，其也可以当作一款流化床立式管式炉来使用，可专门针对粉末表面沉积的CVD实验。

球管玻璃炉BG350以其特殊的设计和简便的操作，为实验室物料的分离纯化工作提供了解决方案。根据配置的不同，可对小量物料进行蒸馏、分馏、升华和冷冻干燥等分离操作。产品使用带有导电涂层的石英管作为加热元件，加热快且易于观察，可以将整个烘炉区域加热到最高300℃。此外，透明的样品区域便于进行实时观察，如果样品有热降解的迹象,可手动中断加热过程。