单温区PE-CVD系统采用高性能射频电源，等离子体更稳定；滑轨式结构能使整个反应腔室都处于辉光产生区；可实现快速升温和降温功能；与传统CVD相比较，生长温度更低。

1500单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件，额定温度1500℃，温度可达1450℃。采用宇电控温仪表和S型热电偶，可编程30段程序控温，控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰，双环密封技术，可应用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛下材料烧结、基片镀膜等实验环境。

实验级单温区立式管式炉 炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。

微型立式管式炉TFV-1200-30-200是一款小型开启式立式管式炉，其炉管直径为φ30/50mm可选，适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。如果选用不同的配件与装置搭配，其也可以当作一款流化床立式管式炉来使用，可专门针对粉末表面沉积的CVD实验。

实验级三温区管式炉采用了控制单元和炉膛一体化设计。整体双层风冷结构设计，使表面温度保持在60℃以下。炉膛本身采用了高纯氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型，加热元件为电阻丝。散热系统采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃。真空腔室采用石英管材质，其贯穿整个炉体，炉管两端选用不锈钢法兰密封，可在真空或气氛环境下工作。加热元件与炉管平行，均匀的分布在炉管外，有效地保证了温场的均匀性。

微型回转炉TFR-1200-30- 220是一款小型单温区回转炉，采用双层壳体结构，并带有风冷系统，内部通过电机驱动炉管转动，转速低，旋转更平稳。炉管采用异型石英管，内部焊接有扬料板，可使粉体烧结更加充分和均匀。